氟化镁镀膜不同规格类型在镀膜应用上的区别-江苏东方硕华光学材料有限公司

氟化镁镀膜不同规格类型在镀膜应用上的区别

MgF2是应用较早的、常用的、性能优良的光学镀膜材料。然而，由于其制备工艺过程不同所造成的材料内部组织结构上的差异，终对真空镀膜工艺和薄膜光学性能(如折射率)会产生很大的影响。

MgF2压片材料结构较为松散，内部组织中存在大量的气孔和未脱除的结晶水，冷压时排出了部分气孔，但由于没能从根本上消除气孔，并有少量结晶水存在，镀膜过程仍有放气、喷溅及成膜后折射率偏离现象。

MgF2晶体材料，从材料处理工艺上采用了真空低温预处理、高温脱气等过程，*大限度地排除了产生放气、喷溅和发生化学反应，从而具备了组织均匀的良好内部特征，是真空镀膜的优良选材。